První čipy vyrobené 10nanometrovým výrobním procesem dodá společnost Intel na trh na přelomu let 2016 a 2017. A zástupci společnosti věří, že platnost Moorova zákona neohrozí ani 7nanometrová technologie. Ta ovšem přinese konec křemíku v čipech.
Uvedení 14nanometrových prvků zdržela nepředvídaná složitost přípravy výrobní technologie. Nyní zástupci společnosti Intel věří, že plánovaná premiéra masové produkce nebude ohrožena. Moorův zákon, který říká, že se každých 18 měsíců zdvojnásobí hustota tranzistorů na čipu, by měl obstát v 10 i 7nanometrovém rozměru. Druhý uvedený by teoreticky mohl dorazit na scénu již v roce 2018.
Na místo křemíku se však role základního substrátu chopí s největší pravděpodobností indium arsenid (InAs) a galium arsenid (GaAs). Oba materiály vykazují vyšší pohyblivost elektronů, což je předurčuje k výrobě menších a rychlejších čipů. Bližší detaily však nejsou známy, resp. Veřejné. Rozměry 10 a 7 nanometrů chce Intel zvládnout bez extrémně ultrafialové litografie. Její aplikaci totiž provázejí problémy.
